碳化硅真空烧结炉

碳化硅真空烧结炉

设备介绍

碳化硅烧结炉用于SiC陶瓷制品的反应烧结、无压烧结、重结晶烧结、热等静压烧结,也可用于氮化硅等其他陶瓷制品的烧结。该设备最高温度可达2400℃,具有排胶、除尘系统,排胶烧结一次完成。

技术参数:

Model型号 Temperature Uniformity Size(W*H*L)

均温区尺寸(宽*高*长)

Max. Temperature

最高温度

Ultimate Pressure

极限真空度

Temperature Uniformity

均温性

Loading Capacity

装载量

RVS-446-S 400*400*600mm 2400℃ 6.7*10-1Pa ±5℃ 100Kg
RVS-557-S 500*500*700mm 2400℃ 6.7*10-1Pa

 

±5℃ 200Kg
RVS-669-S 600*600*900mm 2400℃ 6.7*10-1Pa ±5℃ 300Kg
RVS-7710-S 700*700*1000mm 2400℃ 6.7*10-1Pa ±5℃ 500Kg
RVS-8812-S 800*800*1200mm 2400℃ 6.7*10-1Pa ±10℃ 700Kg
RVS-9915-S 900*900*1500mm 2400℃ 6.7*10-1Pa ±10℃ 1000Kg
RVS-V0507-S φ500*700mm 2400℃ 6.7*10-1Pa ±5℃ 300Kg
RVS-V1010-S φ1000*1000mm(vertical) 2400℃ 6.7*10-1Pa ±5℃ 1000Kg
RVS-V1518-S φ1500*1800mm(vertical) 2400℃ 6.7*10-1Pa ±5℃ 2000Kg
Remark: The working zone of equipment could be customized base on customer’s production.

备注:提供定制服务,设备工作区可以根据客户产量.


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