设备介绍：
碳化硅烧结炉用于SiC陶瓷制品的反应烧结、无压烧结、重结晶烧结、热等静压烧结，也可用于氮化硅等其他陶瓷制品的烧结。该设备最高温度可达2400℃，具有排胶、除尘系统，排胶烧结一次完成。
技术参数：
| Model
型号 |
Working Zone Size
(W*H*L) 工作区尺寸（宽*高*长） |
Max Design Temp.
最高温度
|
Ultimate
Pressure 极限真空度 |
Pressure Rising Rate
压升率 |
Temp.
Uniformity 温度均匀性 |
Gas Type
充气类型 |
| RVS-4411-S | 400*400*1100 mm | 2400℃
|
6.7*10-1Pa
|
0.67Pa/h | ±5℃ | N2/Ar |
| RVS-5512-S | 500*500*1200 mm | 2400℃ | 6.7*10-1Pa | 0.67Pa/h | ±5℃ | N2/Ar |
| RVS-6615-S | 600*600*1500 mm | 2400℃ | 6.7*10-1Pa | 0.67Pa/h | ±5℃ | N2/Ar |
| RVS-7720-S | 700*700*2000 mm | 2400℃ | 6.7*10-1Pa | 0.67Pa/h | ±5℃ | N2/Ar |
| RVS-8825-S | 800*800*2500 mm | 2400℃ | 6.7*10-1Pa | 0.67Pa/h | ±5℃ | N2/Ar |
| RVS-8522-S | 850*850*2200 mm | 2400℃ | 6.7*10-1Pa | 0.67Pa/h | ±5℃ | N2/Ar |
